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四方光电(武汉)仪器有限公司为四方光电股份有限公司(688665.SH)的全资子公司,前身为成立于2010年的湖北锐意自控系统有限公司,是一家专业提供气体成分及流量测量方案的高新技术企业,服务于环境监测、过程气体监测、智慧计量等领域。 基于四方光电核心气体传感技术平台的优势,四方仪器开发了系列非分光红外(NDIR)、紫外差分吸收光谱(UV-DOAS)、激光拉曼(LRD)、超声波(Ultrasonic)、热导(TCD)、光散射探测(LSD)等技术原理的气体成分流量仪器仪表,产品广泛应用于环境...
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查看更多2025年4月18日,四方光电股份有限公司(以下简称:四方光电,代码:688665.SH)正式发布《2024年环境、社会与公司治理(ESG)报告》(以下简称:报...
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查看更多1.腔室清洁终点精确控制的重要性与挑战薄膜沉积(如CVD/ALD)、光刻和刻蚀是半导体制造的三大核心工艺,其中薄膜沉积作为基础环节,负责金属、介质及半导体薄膜的制备。为确保薄膜沉积工艺的稳定性,需定期使用NF₃对腔室进行清洁,以去除积聚的聚合物材料。精确控制清洁终点至关重要:l清洁不足:残留沉积物会形成颗粒污染,导致产品良率下降l过度清洁:增加NF₃消耗、延长设备停机时间并缩短腔室寿命。传统方法依赖经验时间控制清洁终点,但最佳清洁时间受多变量影响(如沉积厚度、温度、压力、气体...